Radiación ultravioleta extrema

Este artículo o la siguiente sección no se proporcionan adecuadamente con documentos de respaldo ( por ejemplo, evidencia individual ). La información sin pruebas suficientes podría eliminarse pronto. Por favor, ayude a Wikipedia investigando la información e incluyendo buena evidencia.
Señal de advertencia de radiación ionizante
Imágenes en falso color del sol en el EUV: 17 nm (azul), 19 nm (verde), 29 nm (amarillo) 30 nm (rojo).

La radiación ultravioleta extrema ( EUV , radiación EUV , ultravioleta extrema inglesa , XUV ) describe el rango espectral de radiación electromagnética entre 10 nm y 121 nm, que corresponde a energías de fotones entre aproximadamente 10,25 eV y 124 eV. EUV denota así un rango de longitud de onda en el límite de los rayos X , que se solapa con la radiación ultravioleta de vacío (VUV, según ISO21348 10-200 nm, según DIN 5031 100-200 nm).

Límites comunes

Además de los límites de longitud de onda mencionados anteriormente, existen otros:

  1. la longitud de onda del límite inferior es de 30 nm
  2. corresponde al límite inferior de longitud de onda

La abreviatura XUV también se asocia con el nombre en inglés extreme ultra violet . Sin embargo, según ISO 21348, XUV (0,1–10 nm) denota el rango espectral de radiación ultravioleta que se superpone con la radiación de rayos X suaves.

solicitud

La litografía EUV reemplazó en la tecnología de semiconductores la fotolitografía tradicional existente en la actualidad y permite la producción económica de circuitos microelectrónicos actuales y el desarrollo de circuitos con densidades de dispositivo más altas. A nivel internacional, los departamentos e institutos de I + D implicados han acordado una longitud de onda central de 13,5  nm . Por lo general, solo se puede utilizar un ancho de banda de aproximadamente el 2% para la litografía. La litografía EUV se ha utilizado comercialmente en la industria de los semiconductores desde 2018 . También participa en esta investigación un grupo del NIST de EE. UU.

Debido a la longitud de onda corta y la fuerte interacción con la materia, la radiación EUV ofrece el potencial para el análisis y la generación de estructuras con resolución nanométrica y típicamente varios cientos de nanómetros de profundidad de penetración .

Evidencia individual

  1. ↑ a b c d ISO 21348 1 de mayo de 2007. Entorno espacial (natural y artificial) - Proceso para determinar las irradiancias solares.
  2. ↑ DIN 5031 parte 7 de enero de 1984. Física de la radiación en el campo óptico y tecnología de iluminación. Designación de los rangos de longitud de onda.
  3. ↑ Nico Ernst: Samsung fabrica chips de 7 nanómetros con filmadoras EUV. En: heise online. 18 de octubre de 2018, consultado el 11 de enero de 2021 .
  4. ↑ Charles Tarrio, Thomas Lucatorto: Cómo la luz ultravioleta extrema nos ayuda a darnos teléfonos inteligentes más inteligentes y satélites más fuertes. En: NIST. 13 de abril de 2020, consultado el 11 de enero de 2021 .